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Specific exposure and photochemistry on dissolvable 3D-PMMA microoptical masters with resist surface grating

Tonchev, S.; Parriaux, O.; Wissmann, M.; Guttmann, M.; Mohr, J.; Krezel, J.; Kujawinska, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220083261
HGF-Programm 43.01.03; LK 01
Erscheinungsvermerk 2nd EOS Conf.on Manufacturing of Optical Components (EOSMOC 2011), Part of World of Photonics 2011, München, May 23-25, 2011
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