Specific exposure and photochemistry on dissolvable 3D-PMMA microoptical masters with resist surface grating
Tonchev, S.; Parriaux, O.; Wissmann, M.; Guttmann, M.
; Mohr, J.; Krezel, J.; Kujawinska, M.
; Mohr, J.; Krezel, J.; Kujawinska, M.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220083261 |
| HGF-Programm | 43.01.03 (POF II, LK 01) Replikation |
| Erscheinungsvermerk | 2nd EOS Conf.on Manufacturing of Optical Components (EOSMOC 2011), Part of World of Photonics 2011, München, May 23-25, 2011 |