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Ion beam treated strained AlGaN/GaN multi quantum wells: HAADF- STEM and HRTEM characterization

Devaraju, G.; Pathak, A. P.; Sathish, N.; Rao, N. S.; Saikiran, V.; Wang, D.; Scherer, T.; Mishra, A. K.; Kübel, C. ORCID iD icon


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220084576
HGF-Programm 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect.
Erscheinungsvermerk 20th Internat.Conf.on Ion Beam Analysis (IBA 2011), Itapema, BR, April 10-15, 2011
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