Ion beam treated strained AlGaN/GaN multi quantum wells: HAADF- STEM and HRTEM characterization
Devaraju, G.; Pathak, A. P.; Sathish, N.; Rao, N. S.; Saikiran, V.; Wang, D.
; Scherer, T.; Mishra, A. K.; Kübel, C.
; Scherer, T.; Mishra, A. K.; Kübel, C.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220084576 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erscheinungsvermerk | 20th Internat.Conf.on Ion Beam Analysis (IBA 2011), Itapema, BR, April 10-15, 2011 |