Herstellung großflächiger optischer Gitter mittels Röntgentiefenlithographie und anschließender Stapelung

Börner, M.; Hofmann, A.; Hummel, B.; Mohr, J.; Lohrke, H.; Brunner, R.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Informatik (IAI) Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2011
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 220084661
HGF-Programm	43.16.01 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for micro a.nanostruct.
Erscheinungsvermerk	Mikrosystemtechnik-Kongress, Darmstadt, 10.-12.Oktober 2011