KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Magnetron sputtering of Al-Cr-O thin films at various substrate temperatures

Diechle, D.; Stueber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.; Schier, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Poster
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220088341
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 13th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2012), Garmisch-Partenkirchen, September 10-14, 2012
URLs Abstract (PDF)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page