Magnetron sputtering of Al-Cr-O thin films at various substrate temperatures

Diechle, D.; Stueber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.; Schier, V.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2012
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 220088341
HGF-Programm	43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erscheinungsvermerk	13th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2012), Garmisch-Partenkirchen, September 10-14, 2012
Externe Relationen	Abstract/Volltext