KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Influence of the deposition geometry on the microstructure of sputter-deposited V-Al-C-N coatings

Darma, S.; Krause, B. ORCID iD icon; Doyle, S.; Mangold, S.; Ulrich, S.; Stüber, M.; Baumbach, T.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220090275
HGF-Programm 43.04.03 (POF II, LK 01) Röntgenoptik
Weitere HGF-Programme 55.51.10 (POF I, LK 01)
Veranstaltung 76. Jahrestagung der DPG und DPG-Frühjahrstagung, Fachverband Dünne Schichten, Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.47(2012), DS 37.19 (2012), Berlin, Deutschland, 25.03.2012 – 30.03.2012
Erscheinungsvermerk 76.Jahrestagung der DPG und DPG-Frühjahrstagung, Fachverband Dünne Schichten, Berlin, 25.-30. März 2012 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.47(2012), DS 37.19
Externe Relationen Abstract/Volltext
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page