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Diffraction lamonography applied to 3-dimensional imaging of dislocation networks in silicon wafers

Hänschke, D.; Helfen, L.; Altapova, V.; Moosmann, J.; Hamann, E. ORCID iD icon; Wittge, J.; Danilewsky, A. N.; Baumbach, T.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220090353
HGF-Programm 55.52.10 (POF II, LK 01) Micro and Nano Science and Technology
Erscheinungsvermerk 11th Biennial Conf.on High Resolution X-Ray Diffraction and Imaging (XTOP 2012), St.Petersburg, Russia, September 15-20, 2012
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