KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Diffraction lamonography applied to 3-dimensional imaging of dislocation networks in silicon wafers

Hänschke, D.; Helfen, L.; Altapova, V.; Moosmann, J.; Hamann, E.; Wittge, J.; Danilewsky, A.N.; Baumbach, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Poster
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220090353
HGF-Programm 55.52.10; LK 01
Erscheinungsvermerk 11th Biennial Conf.on High Resolution X-Ray Diffraction and Imaging (XTOP 2012), St.Petersburg, Russia, September 15-20, 2012
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page