Diffraction lamonography applied to 3-dimensional imaging of dislocation networks in silicon wafers

Hänschke, D.; Helfen, L.; Altapova, V.; Moosmann, J.; Hamann, E.; Wittge, J.; Danilewsky, A. N.; Baumbach, T.

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seit 27.04.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2012
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 220090353
HGF-Programm	55.52.10 (POF II, LK 01) Micro and Nano Science and Technology
Erscheinungsvermerk	11th Biennial Conf.on High Resolution X-Ray Diffraction and Imaging (XTOP 2012), St.Petersburg, Russia, September 15-20, 2012