Diffraction lamonography applied to 3-dimensional imaging of dislocation networks in silicon wafers
Hänschke, D.; Helfen, L.; Altapova, V.; Moosmann, J.; Hamann, E.
; Wittge, J.; Danilewsky, A. N.; Baumbach, T.
; Wittge, J.; Danilewsky, A. N.; Baumbach, T.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Synchrotronstrahlung (ISS) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2012 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220090353 |
| HGF-Programm | 55.52.10 (POF II, LK 01) Micro and Nano Science and Technology |
| Erscheinungsvermerk | 11th Biennial Conf.on High Resolution X-Ray Diffraction and Imaging (XTOP 2012), St.Petersburg, Russia, September 15-20, 2012 |