KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Polymer blend lithography: A versatile method for fabricating nanopatterned self-assembled monolayers

Huang, C.; Moosmann, M.; Jin, J.; Heiler, T.; Vincze, P.; Walheim, S.; Schimmel, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220091004
HGF-Programm 43.11.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Frühjahrstagung DPG, Sektion Kondensierte Materie, Fachverband Chemische Physik und Polymerphysik, Regensburg, 10.-15. März 2013 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.48(2013), CPP 19.8
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page