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Characterization of new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography

Kunka, D.; Mohr, J.; Nazmov, V.; Meiser, J.; Meyer, P.; Amberger, M.; Schulz, J.; Walter, M.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Gruetzner, G.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220091415
HGF-Programm 43.14.02; LK 01
Erscheinungsvermerk 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013 Book of Abstracts
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