Characterization of new resist formulations for HAR patterns made by X-ray lithography
Kunka, D.
; Mohr, J.; Nazmov, V.; Meiser, J.; Meyer, P.
; Amberger, M.; Schulz, J.
; Walter, M.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Gruetzner, G.
; Mohr, J.; Nazmov, V.; Meiser, J.; Meyer, P.
; Amberger, M.; Schulz, J.
; Walter, M.; Voigt, A.; Ahrens, G.; Gruetzner, G.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220091415 |
| HGF-Programm | 43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics |
| Erscheinungsvermerk | 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013 Book of Abstracts |