A Monte Carlo study of the primary absorbed energy redistribution in X-ray lithography
Meyer, P.
; Pantenburg, F. J.
; Pantenburg, F. J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220091416 |
| HGF-Programm | 43.13.01 (POF II, LK 01) Structuring |
| Veranstaltung | 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013. Book of Abstracts |