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A Monte Carlo study of the primary absorbed energy redistribution in X-ray lithography

Meyer, P.; Pantenburg, F.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220091416
HGF-Programm 43.13.01; LK 01
Erschienen in 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013. Book of Abstracts
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