XPS and ToF-SIMS sputter depth profiling of OLEDs using Ar-cluster ion sources
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220093058 |
| HGF-Programm | 43.16.02 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for microscopy a.spect. |
| Erscheinungsvermerk | American Vacuum Society 60th International Symposium, Long Beach, Calif., October 27 - November 1, 2013 |