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The potential of modem X-ray resists for high aspect ratio microstructure fabrication - A comparison

Börner, M.; Fornasier, H.; Hübner, B.; Karbacher, A.; Matthis, B.; Meyer, P.; Mohr, J.; Münch, D.; Straus, C.; Wolf, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220094077
HGF-Programm 43.16.01 (POF II, LK 02)
Erscheinungsvermerk 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013
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