The potential of modem X-ray resists for high aspect ratio microstructure fabrication - A comparison
Börner, M.; Fornasier, H.; Hübner, B.; Karbacher, A.; Matthis, B.; Meyer, P.
; Mohr, J.; Münch, D.; Straus, C.; Wolf, J.
; Mohr, J.; Münch, D.; Straus, C.; Wolf, J.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220094077 |
| HGF-Programm | 43.16.01 (POF II, LK 02) KNMF laboratory for micro a.nanostruct. |
| Erscheinungsvermerk | 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013 |