Direct write laser (DWL) lithography manufacturing of masks for high aspect-ratio grating structures
Walter, M.; Duttenhofer, T.; Kaiser, K.; Meiser, J.; Amberger, M.; Meyer, P.
; Kunka, D.
; Scherer, K.; Birnbacher, L.; Pfeiffer, F.; Schulz, J.
; Mohr, J.
; Kunka, D.
; Scherer, K.; Birnbacher, L.; Pfeiffer, F.; Schulz, J.
; Mohr, J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2014 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220095490 |
| HGF-Programm | 43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics |
| Erscheinungsvermerk | International Workshop on X-ray and Neutron Phase Imaging with Gratings (XNPIG), Garmisch-Partenkirchen, January 21-24, 2014 Book of Abstracts |