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Direct write laser (DWL) lithography manufacturing of masks for high aspect-ratio grating structures

Walter, M.; Duttenhofer, T.; Kaiser, K.; Meiser, J.; Amberger, M.; Meyer, P.; Kunka, D.; Scherer, K.; Birnbacher, L.; Pfeiffer, F.; Schulz, J.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220095490
HGF-Programm 43.14.02 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk International Workshop on X-ray and Neutron Phase Imaging with Gratings (XNPIG), Garmisch-Partenkirchen, January 21-24, 2014 Book of Abstracts
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