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Ferroelectric thin film fabrication by direct UV-lithography

Benkler, M.; Grether, E.; Hobmaier, J.; Schott, J.; Paul, F.; Hanemann, T.

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/220096983
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Poster
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220096983
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 40th Micro and Nano Engineering Conference (MNE 2014), Lausanne, CH, September 22-26, 2014
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