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Grwth of αCr₂O₃ thin films on α-Al₂O₃ substrate at low temperature by r.f.magnetron sputtering

Gao, Y.; Leiste, H.; Stueber, M.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Poster
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 220101045
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 5th European Conference on Crystal Growth (ECCG 5), Bologna, I, September 9-11, 2015
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