Grwth of αCr₂O₃ thin films on α-Al₂O₃ substrate at low temperature by r.f.magnetron sputtering
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) |
| Publikationstyp | Poster |
| Publikationsjahr | 2015 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220101045 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erscheinungsvermerk | 5th European Conference on Crystal Growth (ECCG 5), Bologna, I, September 9-11, 2015 |