Auswirkungen von Reflexen an Seitenwänden von Goldabsorbern in der Röntgentiefenlithographie

Last, A.; Börner, M.; Marschall, F.; Meyer, P.; Simon, M.; Markus, O.; Georgi, S.; Mohr, J.

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seit 18.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Poster
Publikationsjahr	2015
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 220103077
HGF-Programm	43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Veranstaltung	6. Mikrosystemtechnik Kongress (2015), Karlsruhe, Deutschland, 26.10.2015 – 28.10.2015
Erscheinungsvermerk	MikroSystemTechnik Kongress 2015, Karlsruhe, 26.-28.Oktober 2015