Microfabrication of high permittivity metamaterials with tall metal inclusion in thick photoresist layers

Aligodarz, M.T.; Klymyshyn, D.M.; Börner, M.; Matthis, B.; Mohr, J.

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Poster
Jahr	2015
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen ID: 220103081
HGF-Programm	49.01.02; LK 02
Erscheinungsvermerk	MikroSystemTechnik Kongress 2015, Karlsruhe, 26.-28.Oktober 2015