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Microfabrication of high permittivity metamaterials with tall metal inclusion in thick photoresist layers

Aligodarz, M.T.; Klymyshyn, D.M.; Börner, M.; Matthis, B.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Poster
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 220103081
HGF-Programm 49.01.02 (POF III, LK 02) IMT-KNMF Structuring Lab
Veranstaltung MikroSystemTechnik Kongress (2015), Karlsruhe, Deutschland, 26.10.2015 – 28.10.2015
Erscheinungsvermerk MikroSystemTechnik Kongress 2015, Karlsruhe, 26.-28.Oktober 2015
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