Microfabrication of high permittivity metamaterials with tall metal inclusion in thick photoresist layers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Poster |
| Jahr | 2015 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 220103081 |
| HGF-Programm | 49.01.02 (POF III, LK 02) |
| Erscheinungsvermerk | MikroSystemTechnik Kongress 2015, Karlsruhe, 26.-28.Oktober 2015 |