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Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of carbon from methane

Becker, Armin; Hu, Zjiun; Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 22412000
Erscheinungsvermerk J. de phys. IV 9 (1999) H. 8 S. 41.
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