The role of the substrate surface area / reactor volume ratio in chemistry and kinetics of chemical vapor deposition
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 22432000 |
| Erscheinungsvermerk | J. de phys. IV 9 (1999) H. 8 S. 79. |