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The role of the substrate surface area / reactor volume ratio in chemistry and kinetics of chemical vapor deposition

Teubner, Michael; Antes, Jürgen; Hu, Zjiun; Zhang, Wei-Gang; Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 22432000
Erscheinungsvermerk J. de phys. IV 9 (1999) H. 8 S. 79.
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