Chemical vapor deposition in hot wall reactors - the role of the substrate surface area / reactor volume ratio
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 22472000 |
| Erscheinungsvermerk | High temp. - high pressure 32 (2000) S. 725-736. |