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Chemical vapor deposition in hot wall reactors - the role of the substrate surface area / reactor volume ratio

Teubner, Michael; Hu, Zjiun; Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 22472000
Erscheinungsvermerk High temp. - high pressure 32 (2000) S. 725-736.
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