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About the determination of kinetics of chemical vapor deposition in hot wall reactors

Hu, Zjiun; Huettinger, Klaus J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 22482000
Erscheinungsvermerk Advanc. mater. - CVD 6 (2000) S. 77-82.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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