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About the determination of kinetics of chemical vapor deposition in hot wall reactors

Hu, Zjiun; Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 22482000
Erscheinungsvermerk Advanc. mater. - CVD 6 (2000) S. 77-82.
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