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Analysis of Oxide and Nitride Layers on Silicon

Meyer, O.; Gyulai, J.; Mayer, J.W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1970
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230003902
Erscheinungsvermerk Fruehjahrstagung der Dt.Physikal.Ges.in Freudenstadt, 6.-11.April 1970. Verhandlungen der Dt.Physikal.Ges., R.6, Bd 5(1970)
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