Analysis of Oxide and Nitride Layers on Silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1970 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230003902 |
| Erscheinungsvermerk | Fruehjahrstagung der Dt.Physikal.Ges.in Freudenstadt, 6.-11.April 1970. Verhandlungen der Dt.Physikal.Ges., R.6, Bd 5(1970) |