Pulsed electron beam annealing of high-dose arsenic implanted silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1980 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230014539 |
| Erscheinungsvermerk | Vortr.: Technische Hochschule Aachen, 10.April 1980 |