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Pulsed electron beam annealing of high-dose arsenic implanted silicon

Turos, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1980
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230014539
Erscheinungsvermerk Vortr.: Technische Hochschule Aachen, 10.April 1980
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