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Resists und Abformmassen fuer die Roentgentiefenlithographie und die Galvanoformung

Ehrfeld, W.; Hagmann, P.; van Huelsen, E.; Mohr, J.; Muenchmeyer, D.; Weigelt, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1988
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230025714
Erscheinungsvermerk Makromolekulares Kolloquium, Albert-Ludwigs-Universitaet, Freiburg, 3.-5.Maerz 1988
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