Resists und Abformmassen fuer die Roentgentiefenlithographie und die Galvanoformung

Ehrfeld, W.; Hagmann, P.; Huelsen, E. van; Mohr, J.; Muenchmeyer, D.; Weigelt, W.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1988
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 230025714
Erscheinungsvermerk	Makromolekulares Kolloquium, Albert-Ludwigs-Universitaet, Freiburg, 3.-5.Maerz 1988