Resists und Abformmassen fuer die Roentgentiefenlithographie und die Galvanoformung

Ehrfeld, W.; Hagmann, P.; Huelsen, E. van; Mohr, J.; Muenchmeyer, D.; Weigelt, W.

Seitenaufrufe: 64
seit 31.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1988
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 230025714
Erscheinungsvermerk	Makromolekulares Kolloquium, Albert-Ludwigs-Universitaet, Freiburg, 3.-5.Maerz 1988