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Characterization of micro-optical components fabricated by deep etch X-ray lithography

Goettert, J.; Mohr, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1991
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230030283
HGF-Programm 16.01.04 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Internat.Conf.on Optical Sciences and Engineering, Den Haag, NL, March 11-15, 1991
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