Systematic studies of HTSC thin film growth by ICM-sputtering
Geerk, J.; Linker, G.; Meyer, O.; Ratzel, F.; Reiner, J.; Remmel, J.; Kroener, T.; Henn, R.; Massing, S.; Brecht, E.; Strehlau, B.; Smithey, R.; Wang, R. L.; Wang, F.
; Siegel, M.; Ritschel, C.; Rauschenbach, B.
; Siegel, M.; Ritschel, C.; Rauschenbach, B.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1991 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230030546 |
| HGF-Programm | 13.03.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | 3rd FEM Workshop on High-Temperature Superconducting Electron Devices, Kumamoto, J, May 15-17, 1990 |