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Some investigations on plasmaless dry etching of silicon and its oxide with molecular fluorine

Guber, A.; Koehler, U.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1991
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230030598
HGF-Programm 16.04.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 13th Internat.Symp.on Fluorine Chemistry, Bochum, September 1-6, 1991 Journal of Fluorine Chemistry, 54(1991) Nr.1-3, A4
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