Some investigations on plasmaless dry etching of silicon and its oxide with molecular fluorine
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1991 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230030598 |
| HGF-Programm | 16.04.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | 13th Internat.Symp.on Fluorine Chemistry, Bochum, September 1-6, 1991 Journal of Fluorine Chemistry, 54(1991) Nr.1-3, A4 |