Charakterisierung von 123-Schichtwachstum mittels TEM, AES und XRD

Ritschel, C.; Nold, E.; Linker, G.; Nuecker, N.; Geerk, J.; Wang, R. L.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1991
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 230030993
HGF-Programm	13.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	25.Tagung Elektronenmikroskopie, Darmstadt, 1.-7.September 1991