Optical components fabricated by deep-etch X-ray lithography

Bley, P.; Goettert, J.; Mohr, J.; Mueller, C.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1991
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230031618
HGF-Programm	16.01.04 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	Micro System Technologies, Berlin, October 29 - November 1, 1991