Multilayer mirrors structured by RIE used as X-ray reflection masks for soft X-ray projection lithography

Rahn, S.; Kloidt, A.; Kleineberg, U.; Schmiedeskamp, B.; Kadel, K.; Schomburg, W. K.; Hormes, J.; Heinzmann, U.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1993
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230033604
HGF-Programm	41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	13th General Conf.of the Condensed Matter Division of the European Physical Society in Conjunction with Arbeitskreis Festkoerperphysik Deutsche Physikalische Gesellschaft, Regensburg, March 29 - April 2, 1993 Europhysics Conference Abstracts, 17A(1993) SF 42.40