Electrochemical and electroanalytical properties of titanium nitride films deposited by reactive sputtering

Schlesinger, R.; Cai, Z.; Klewe-Nebenius, H.; Hoffmann, W.; Ache, H. J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Radiochemie (IRCH)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1993
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230034319
HGF-Programm	41.03.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	Jahrestagung der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Angewandte Elektrochemie, Berlin, 7.-10.September 1993