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Deposition and characterization of BCN thin films produced by RF magnetron sputtering

Kimm, F.; Jehn, H.; Holleck, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230036736
HGF-Programm 52.01.07; LK 01
Erscheinungsvermerk 4th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 19-23, 1994 Book of Abstracts
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