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Heat transport effects in masks for deep x-ray lithography during the irradiation process

Neumann, M.; Pantenburg, F. J.; Rohde, M.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230038139
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Microstructure Technology (HARMST '95), Karlsruhe, July 3-5, 1995
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