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Effects of electroplating at high aspect ratio micropatterned electrodes

Bade, K. ORCID iD icon; Thommes, A.; Leyendecker, K.; Bacher, W.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230038452
HGF-Programm 41.01.03 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Microstructure Technology (HARMST '95), Karlsruhe, July 3-5, 1995
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