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Beryllium: a need for the fabrication of ultra high LIGA structures (The thousand micron limit of deep x-ray lithography)

Hein, H.; Mohr, J.; Pantenburg, F.J.; Sesterhenn, M.



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seit 14.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1997
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230041006
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Microstructure Technology (HAMRST '97), Madison, Wis., June 20-21, 1997
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