Electrical conductivity in ion implanted TiO₂-single crystal

Fromknecht, R.; Meyer, O.; Khubeis, I.; Massing, S.; Silva, R. C. da; Alves, E.; Redondo, L. M.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1998
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230042814
HGF-Programm	34.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	62.Physikertagung gemeinsam mit der Frühjahrstagung DPG, Regensburg, 23.-27.März 1998 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, Bd.33 (1998) DS 24.12 12th Internat.Conf.on Ion Implantation Technology (IIT 98), Kyoto, J, June 22-26, 1998