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Einfluß der Herstellungsparameter auf die Eigenschaften von Einzelelektronentransistoren aus Al/Al₂O₃/Al-Strukturen

Limbach, B.; Sypli, A.; Wallisser, C.; Schäfer, R.; Hein, H.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1998
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230042827
HGF-Programm 34.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 62.Physikertagung gemeinsam mit der Frühjahrstagung DPG, Regensburg, 23.-27.März 1998 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, Bd.33 (1998) TT 10.5
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