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Ion implantation in TiO₂: damage production and recovery, lattice site location and electrical conductivity

Fromknecht, R.; Khubeis, I.; Massing, S.; Meyer, O.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230042866
HGF-Programm 34.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk European Materials Research Society Meeting, Strasbourg, F, June 16-19, 1998 12th Internat.Conf.on Ion Implantation Technology (IIT 98), Kyoto, J, June 22-26, 1998
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