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Improved adhesion of deep X-ray lithography resist structures by using a mirror system

Pantenburg, F. J.; Megtert, S.; Achenbach, S.; Kupka, R.; Mohr, J.; Roulliay, M.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230045396
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk HARMST'99 - Workshop and Exhibition on High Aspect Ratio Microstructure Technology, Chiba, J, June 13-15, 1999
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