Improved adhesion of deep X-ray lithography resist structures by using a mirror system

Pantenburg, F. J.; Megtert, S.; Achenbach, S.; Kupka, R.; Mohr, J.; Roulliay, M.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1999
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230045396
HGF-Programm	41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	HARMST'99 - Workshop and Exhibition on High Aspect Ratio Microstructure Technology, Chiba, J, June 13-15, 1999