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Trimming the thickness gradients of gas permeable SiO₂ layers with different IBAD conditions

Frietsch, M.; Goschnick, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230047454
HGF-Programm 41.05.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 27th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 2000), San Diego, Calif., April 10-14, 2000
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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