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A rapid depth profiling method to examine SiO₂ coatings with a thickness gradient on a gas sensor multilayer system

Frietsch, M.; Schneider, T.; Trouillet, V.; Goschnick, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230048397
HGF-Programm 41.05.03 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Asian and Pacific Surface and Interface Analysis Conf. (APSIA), Beijing, China, October 23-26, 2000
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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