Intrinsic stress reduction of magnetron sputtered graded carbon films with TiC additions

Bauer, C.; Leiste, H.; Stüber, M.; Ulrich, S.; Holleck, H.

Seitenaufrufe: 11
seit 10.09.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2000
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230048742
HGF-Programm	41.02.03 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	Werkstoffwoche 2000, München, 25.-28.September 2000