New resist materials for deep X-ray lithography
Schulz, M.
; Börner, M.; Göttert, J.; Hanemann, T.; Hausselt, J.; Motz, G.
; Börner, M.; Göttert, J.; Hanemann, T.; Hausselt, J.; Motz, G.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung (IMF) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2002 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230052643 |
| HGF-Programm | 41.03.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | ANKA User Meeting, Karlsruhe, 16.-17.September 2002 |