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New resist materials for deep X-ray lithography

Schulz, M.; Börner, M.; Göttert, J.; Hanemann, T.; Hausselt, J.; Motz, G.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230052643
HGF-Programm 41.03.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk ANKA User Meeting, Karlsruhe, 16.-17.September 2002
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