KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Structural and dielectric properties of strained oxide multilayers

Fuchs, D.; Adam, M.; Schweiss, P.; Schneider, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230054292
HGF-Programm 52.02.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 15th American Conf.on Crystal Growth and Epitaxy, Keystone, Colo., July 20-24, 2003
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page