Structural and dielectric properties of strained oxide multilayers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Festkörperphysik (IFP) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2003 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230054292 |
| HGF-Programm | 52.02.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | 15th American Conf.on Crystal Growth and Epitaxy, Keystone, Colo., July 20-24, 2003 |