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Structural and dielectric properties of strained oxide multilayers

Fuchs, D.; Adam, M.; Schweiss, P.; Schneider, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230054292
HGF-Programm 52.02.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 15th American Conf.on Crystal Growth and Epitaxy, Keystone, Colo., July 20-24, 2003
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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