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Fatigue as a reliability concern in microelectronic interconnects

Volkert, C.A.; Mönig, R.; Park, Y.B.; Zhang, G.P.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230054802
HGF-Programm 41.03.03; LK 01
Erscheinungsvermerk MRS Spring Meeting, Symp.'Mechanical Properties Derived from Nanostructuring Materials', San Francisco, Calif., April 21-25, 2003
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