Fatigue as a reliability concern in microelectronic interconnects

Volkert, C. A.; Mönig, R.; Park, Y. B.; Zhang, G. P.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2003
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230054802
HGF-Programm	41.03.03 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	MRS Spring Meeting, Symp.'Mechanical Properties Derived from Nanostructuring Materials', San Francisco, Calif., April 21-25, 2003