KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Fatigue as a reliability concern in microelectronic interconnects

Volkert, C.A.; Mönig, R.; Park, Y.B.; Zhang, G.P.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230054802
HGF-Programm 41.03.03 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk MRS Spring Meeting, Symp.'Mechanical Properties Derived from Nanostructuring Materials', San Francisco, Calif., April 21-25, 2003
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page