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High resolution submicron X-ray intermediate mask fabrication by 100keV e-beam lithography system

Wang, L.; Desta, Y.M.; Fettig, R.K.; Goettert, J.; Hein, H.; Jakobs, P.; Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230054946
HGF-Programm 11 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003
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