High resolution submicron X-ray intermediate mask fabrication by 100keV e-beam lithography system
Wang, L.; Desta, Y. M.; Fettig, R. K.; Goettert, J.; Hein, H.; Jakobs, P.; Schulz, J.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2003 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230054946 |
| HGF-Programm | 11 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003 |