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Combined RF magnetron sputtering and ion implantation for the synthesis of Si-C-N thin films

Bruns, M.; Geckle, U.; Nold, E.; Rudolphi, M.; Baumann, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230056366
HGF-Programm 41.06.01 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk 50th Internat.Symp.of the American Vacuum Society (AVS), Baltimore, Md., November 3-7, 2003
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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