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Improvements in X-ray masks for optical structures produced by electron beam lithography

Last, A.; Mohr, J.; Hein, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230058860
HGF-Programm 41.04.01 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk 10th Microoptics Conf.(MOC'04), Jena, September 1-3, 2004
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