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Evaluation of process conditions for electroplating of high aspect ratio microstructures using a sulfite gold electrolyte

Dambrowsky, N.; Bade, K. ORCID iD icon; Schulz, J. ORCID iD icon; Saile, V.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230061883
HGF-Programm 41.01.04 (POF I, LK 01) Metallabscheidung
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005
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