Improvements in resist technology for X-ray masks
Hahn, L.; Meyer, P.; Schulz, J.
; Moran-Iglesias, C.; Lücke, P.
; Moran-Iglesias, C.; Lücke, P.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230061884 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE |
| Erscheinungsvermerk | High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005 |