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Improvements in resist technology for X-ray masks

Hahn, L.; Meyer, P.; Schulz, J.; Moran-Iglesias, C.; Lücke, P.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230061884
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Erscheinungsvermerk High Aspect Ratio Micro Structure Technology Workshop (HARMST2005), Gyeongju, Korea, June 10-13, 2005
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