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Effective stress reduction of magnetron-sputtered cubic boron nitride films by controlled oxygen addition

Ye, J.; Ulrich, S.; Stüber, M.; Leiste, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230062591
HGF-Programm 42.02.02; LK 01
Erscheinungsvermerk 5th Asian-European Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (AEPSE'2005), Qingdao, China, September 12-16, 2005
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