Effective stress reduction of magnetron-sputtered cubic boron nitride films by controlled oxygen addition
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230062591 |
| HGF-Programm | 42.02.02 (POF I, LK 01) Nanoskalige Schichtsysteme u.Oberflächen |
| Erscheinungsvermerk | 5th Asian-European Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (AEPSE'2005), Qingdao, China, September 12-16, 2005 |